我們都知道，金屬標牌可以做很多豐富多彩的顏色，或者幾種顏色的組合搭配。經(jīng)常會用到真空鍍這種工藝，下面給大家介紹下這些顏色是怎么鍍上去的，方便感興趣的朋友了解!文章有些長，建議收藏下來慢慢看。

　　一、PVD鍍膜是什么

　　PVD是英文Physical Vapor Deposition的縮寫，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。

　　PVD鍍膜技術(shù)可分為三類：真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。對應(yīng)三大類PVD技術(shù)，對應(yīng)的真空鍍膜設(shè)備包括真空蒸發(fā)鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機。

　　近十年來，真空離子鍍技術(shù)發(fā)展最快，已成為最先進的表表面處理方法之一。所謂PVD鍍膜，是指真空離子鍍膜;PVD涂布機通常指真空離子涂布機。

　　PVD鍍膜(離子鍍膜)技術(shù)的具體原理是，在真空條件下，采用低電壓大電流的電弧放電技術(shù)，通過氣體放電蒸發(fā)靶材，蒸發(fā)的物質(zhì)和氣體被電離，蒸發(fā)的物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物通過電場的加速沉積在工件上。采用PVD鍍膜技術(shù)沉積的薄膜具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系數(shù))、良好的耐蝕性和化學穩(wěn)定性等特點，使用壽命更長。同時，薄膜層可以大大改善工件的外觀和裝飾性能。

　　二、PVD真空鍍膜可以鍍出何種顏色

　　PVD鍍膜設(shè)備可以鍍出來的膜層顏色種類也有很多，裝飾效果更實用美觀.PVD鍍膜設(shè)備目前可以加工的膜層的顏色有玫瑰金 、藍色 、彩色、黑色、槍色 、鈦灰色 、炫彩 、仿金色等。在鍍膜過程中膜層顏色是通過控制不同靶材和不同氣體的搭配，在真空環(huán)境下沉積到工件上的一層膜，形成各式各樣的顏色膜層.PVD鍍膜設(shè)備鍍出膜層結(jié)束以后，可以用顏色測量儀對膜層顏色進行測量，才能確定PVD鍍膜設(shè)備鍍出的顏色是否滿足要求。PVD鍍膜設(shè)備在鍍膜過程中也不會產(chǎn)生有毒或無污染的環(huán)保型物質(zhì)。

　　三、PVD真空鍍膜技術(shù)歷史起源

　　真空涂層技術(shù)在上世紀六十年代オ出現(xiàn)，將CVD(化學氣相沉積)技術(shù)應(yīng)用于使硬質(zhì)合金刀具上。由于該技術(shù)需在高溫下進行。到了上世紀七十年代末，開始出現(xiàn)因：

　　(1)其在真空密封的腔體內(nèi)成膜，幾乎無任何環(huán)境污染問題，有利于環(huán)保;

　　(2)其能得到光亮、華貴的表面，在顏色上，成熟的有七彩色、銀色、透明色、金黃色、黑色、以及由金黃色到黑色之間的任何一種顏色，能夠滿足裝飾性的各種需要;

　　(3)可以輕松得到其他方法難以獲得的高硬度、高耐磨性的陶瓷涂層、復(fù)合涂層，應(yīng)用在工裝、模具上面，可以使壽命成倍提高，較好地實現(xiàn)了低成本、高收益的效果;

　　(4)此外，PVD涂層技術(shù)具有低溫、高能兩個特點，幾乎可以在任何基材上成膜，因此，應(yīng)用范圍十分廣闊，其發(fā)展神速也就不足為奇。

　　真空涂層技術(shù)發(fā)展到了今天還出現(xiàn)了PCVD(物理化學氣相沉積)、MI-CVD(中溫化學氣相沉積)等新技術(shù)，各種涂層設(shè)備、各種涂層工藝層出不窮。目前較為成熟的PVD方法主要有多弧鍍與磁控濺射鍍兩種方式。多弧鍍設(shè)備結(jié)構(gòu)簡單，容易操作。多弧鍍的不足之處是，在用傳統(tǒng)的DC電源做低溫涂層條件下，當涂層厚度達到0.3μm時，沉積率與反射率接近，成膜變得非常困難。而且，薄膜表面開始變朦。多弧鍍另一個不足之處是，由于金屬是熔后蒸發(fā)，因此沉積顆粒較大，致密度低，耐磨性比磁控濺射法成膜差。可見，多弧鍍膜與磁控濺射法鍍膜各有優(yōu)劣，為了盡可能地發(fā)揮它們各自的優(yōu)越性，實現(xiàn)互補，將多弧技術(shù)與磁控技術(shù)合而為一的涂層機應(yīng)運而生。在工藝上出現(xiàn)了多弧鍍打底，然后利用磁控濺射法増厚涂層，再利用多弧鍍達到穩(wěn)定的表面涂層顏色的新方法。

　　四、PVD真空鍍膜技術(shù)原理

　　PVD( Physical Vapor Deposition)即物理氣相沉積，分為：真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。我們通常所說的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜和真空濺射鍍;通常說的NCVM鍍膜，就是指真空蒸發(fā)鍍膜。

　　真空蒸鍍基本原理：在真空條件下，使金屬、金屬合金等蒸發(fā)，然后沉積在基體表面上，蒸發(fā)的方法常用電阻加熱，電子東轟擊鍍料，使蒸發(fā)成氣相，然后沉積在基體表面，歷史上，真空蒸鍍是PVD法中使用較早的技術(shù)。

　　濺射鍍膜基本原理：充(Ar)氣的真空條件下，使氣進行輝光放電，這時氬(Ar)原子電離成氮離子(Ar)，離子在電場力的作用下，加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材，靶材會被濺射出來而沉積到工件表面。濺射鍍膜中的入射離子，一般采用輝光放電獲得，在10-2pa~10Pa范圍，所以濺射出來的粒子在飛向基體過程中，易和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞，使運動方向隨機，沉積的膜易于均勻。

　　離子鍍基本原理：在真空條件下，采用某種等離子體電離技術(shù)，使鍍料原子部分電離成離子，同時產(chǎn)生許多高能量的中性原子，在被鍍基體上加負偏壓。這樣在深度負偏壓的作用下，離子沉積于基體表面形成薄膜。